マスクレス露光装置

大日本科研 MX-1204

ポイントアレイ方式を用いて直接パターンを描画する事が可能な装置です。リソグラフィ工程でのフォトマスクを必要とせず、開発コストやマーケットへの時間差を最小限に抑ることが可能です。150mm角露光サイズ、最小線幅2um、線幅精度0.1um、アライメント精度±0.15um。