Cambridge Nanotech/Ultratech Fiji F200

高品質な薄膜の成膜を目的とした原子層堆積（ALD）装置。プラズマALDに対応しており、クリーンルーム環境下で薄膜の精密な堆積プロセス技術を提供している高性能な薄膜装置です。