成膜・堆積


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プラズマCVD装置

投稿日 : 2024年9月23日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

SAMCO PD-200STL 液体ソースによるシリコン酸化 (SiO2) 膜、シリコン窒化 (SiN) 膜形成用の高速プラズマCVD装置です。カソード側のシース電界で得られるイオンエネルギーにより、低温下で低ストレスの…


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プラズマCVD装置

投稿日 : 2024年9月23日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

SAMCO PD-100ST 液体原料のTEOSによるシリコン酸化膜（SiO₂）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。独自のセルフバイアス法により高品質のシリコン酸化膜を薄膜から厚膜まで低ストレスで成膜できます。ø4…


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電子ビーム蒸着装置

投稿日 : 2024年9月2日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

JEOL BS series 研究開発に適した電子ビーム蒸着装置です。様々なオプション機構を追加することで幅広い用途に使用可能です。蒸着源は、電子ビーム蒸着源（電子銃）、ボンバード蒸着源、抵抗加熱蒸着源を選択できます。


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電子ビーム蒸着装置

投稿日 : 2024年9月1日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

ULVAC EX-300 基板上に金属を成膜するための装置です。操作パネルから集中的制御で排気操作・成膜操作を自動で行うことができるため、研究開発および少量生産に適しています。300mm対応。