A study of Fabrication Process of III-V/SOI Hybrid Integrated Circuits using Plasma Activated Bonding 投稿日 : 2015年9月26日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab J. Suzuki, Y. Hayashi, Y. Kuno, T. Amemiya, N. Nishiyama, S. Arai, the International Nano-Optoelectronics Workshop 2015, TuP22, Aug. 2015.
A study of Fabrication Process of III-V/SOI Hybrid Integrated Circuits using Plasma Activated Bonding 投稿日 : 2015年9月26日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab J. Suzuki, Y. Hayashi, Y. Kuno, T. Amemiya, N. Nishiyama, S. Arai, the International Nano-Optoelectronics Workshop 2015, TuP22, Aug. 2015.