Interference and switching effect of topological interfacial modes with geometric phase

X.-X. Wang, S. Okada, T. Maekawa, L. Hu, T. Amemiya, X. Hu, Phys. Rev. Research 7, 023067.

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TBA

T. Amemiya et al., J. Phys. Soc. Jpn., to be published.

トポロジカルエッジ状態を用いた1×2光スプリッタ

雨宮 智宏, 岡田 祥, 西山 伸彦, 胡 暁, レーザー研究, Vol. 53, No. 5, to be published.

AR/VR 技術へのメタマテリアル応用

雨宮 智宏, 前川 永遠, 『メタマテリアル/メタサーフェス 実用展開の可能性 ～メタレンズ・通信・エネルギー・遮音等応用に向けた研究動向～』 情報機構, to be published.

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UVナノインプリントリソグラフィを導入したシリコンフォトニクスプロセス

雨宮 智宏, 永松 周, 西山 伸彦, 森 莉紗子, 藤井 恭, 浅井 隆宏, 塩田 大, 渥美 裕樹, 『ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望～EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み～』 AndTech, pp. 92-99.

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UVナノインプリント：シリコンフォトニクスからARグラスまで

雨宮 智宏 他. 日本化学会秋季事業 第15回 CSJ化学フェスタ2025, Oct. 2025.

Co-Packaged Opticsへ向けた3次元レーザ描画による光接続技術

雨宮 智宏 他. 電子情報通信学会 ソサイエティ大会, Sep. 2025.

TBA

T. Amemita et al., The 15th International Conference on Metamaterials, Photonic Crystals and Plasmonics (META 2025), July 2025.

TBA

T. Amemita et al., The 11th International Conference on Antennas and Electromagnetic Systems (AES 2025), July 2025.

UV-NILプロセス技術の開発：シリコンフォトニクスからARグラスまで

雨宮 智宏. フォトポリマー懇話会, Jun. 2025.

メタ的な拡張現実(Augmented Reality)技術

雨宮 智宏. 一般社団法人日本オプトメカトロニクス協会（JOEM）公開セミナー, May. 2025.

将来的なCPOに向けた光集積回路におけるフォトニックワイヤボンディング技術

雨宮 智宏. 日本光学会 光設計研究グループ 第78回研究会, Apr. 2025.

光電融合に向けた光回路プロセス技術の開発

雨宮 智宏. 公益社団法人 新化学技術推進協会（JACI）次世代エレクトロニクス分科会主催講演会, Apr. 2025.

メタマテリアルを内包した有機薄膜フィルム

雨宮 智宏. 公益社団法人 新化学技術推進協会（JACI）ナノフォトニクスエレクトロニクス交流会主催講演会, Mar. 2025.

Mechanism and demonstration of interference and multi-port switching in silicon topological photonics

X.-X. Wang et al., The 15th International Conference on Metamaterials, Photonic Crystals and Plasmonics (META 2025), July 2025.

Photonic wire bonding using world’s highest refractive index UV curable resin for dip-in 3D laser lithography

L. Xiang, S. Okada, K. Nishiura, T. Shikama, S. Nagamatsu, T. Maekawa, K. Otsuka, T. Amemiya, The 9th International Congress on Laser Advanced Materials Processing (LAMP 2025), 27-02, Jun. 2025.

Fabrication of photonic wire bonding using a developed polymer with a refractive index of 1.65 for direct laser writing

S. Okada, K. Nishiura, T. Shikama, K. Otsuka, T. Amemiya, L. Xiang, N. Yamamoto, K. Akahane, The 9th International Congress on Laser Advanced Materials Processing (LAMP 2025), 39-05, Jun. 2025.

Interferometry switching effect in silicon topological photonics

X.-X. Wang, S. Okada, T. Maekawa, L. Hu, X. Hu, T. Amemiya, The Conference on Lasers and Electro-Optics 2025 (CLEO 2025), May 2025.

Circular polarization splitter using topological photonics

L. Hu, S. Okada, Q. Wang, X.-X. Wang, X. Hu, T. Amemiya, The Conference on Lasers and Electro-Optics 2025 (CLEO 2025), May 2025.

Transfer learning for optimizing topological Z-bending waveguide

Q. Wang, L. Hu, X.-X. Wang, S. Okada, X. Hu, T. Amemiya, The Conference on Lasers and Electro-Optics 2025 (CLEO 2025), May 2025.

Development of fabrication technology for silicon photoniccircuits using UV nanoimprint lithography

S. Nagamatsu, R. Mori, Y. Fujii, T. Asai, S. Okada, Y. Atsumi, D. Shiota, N. Nishiyama, T. Amemiya, The Conference on Lasers and Electro-Optics 2025 (CLEO 2025), May 2025.

Proposal of single-layer full-color AR glasses with two-dimensional mesh diffraction gratings

T. Maekawa, S. Nagamatsu, X. Lixin, S. Noda, S. Okada, S. Shiraga, T. Amemiya, The Conference on Lasers and Electro-Optics 2025 (CLEO 2025), May 2025.

An on-Chip optical skyrmion crystal beam generator using vertically-bent waveguides

W. Lin, T. Yoshida, Y. Atsumi, Y. Sakakibara, T. Amemiya, Y. Ota, S. Iwamoto, The Conference on Lasers and Electro-Optics 2025 (CLEO 2025), May 2025.

On-chip circular polarization generators using valley photonic crystals

W. Kai, W. Lin, C. Zhang , H. Yoshimi, T. Amemiya, Y. Ota, S. Iwamoto, S. Nakagawa, The Conference on Lasers and Electro-Optics 2025 (CLEO 2025), May 2025.

World’s highest refractive index photoresist for dip-in 3D laser lithography

S. Okada, K. Nishiura, T. Shikama, K. Otsuka, T. Amemiya, L. Xiang, N. Yamamoto, K. Akahane, The Conference on Lasers and Electro-Optics 2025 (CLEO 2025), May 2025.

Development of silicon photonics process using UV nanoimprinting

S. Nagamatsu, R. Mori, Y. Fujii, T. Asai, Y. Atsumi, D. Shioda, N. Nishiyama, T. Amemiya, SPIE Photonics West, Silicon Photonics XX, 13371-42, Jan. 2025.

4inchマスターモールドを用いたUV-NILによるシリコンフォトニクスプロセス

永松 周, 森 莉紗子, 藤井 恭, 浅井 隆宏, 岡田 祥, 渥美 裕樹, 塩田 大, 西山 伸彦, 雨宮 智宏, 2025年第2回応用物理学会ナノインプリント技術研究会, May 2025.

ARグラス実現に向けた３次元レジストマスターによるNILプロセス

前川 永遠, 永松 周, 向 立昕, 李 周姸, 大喜田 尚紀, 宮尾 宙, 大塚 健祐, 飯田 健二, 雨宮 智宏, 2025年第2回応用物理学会ナノインプリント技術研究会, May 2025.

Interference and Switching Effect of Topological States in Silicon Photonics

Xing-Xiang Wang, Sho Okada, Towa Maekawa, Liyan Hu, Xiao Hu, Tomohiro Amemiya, 第72回応用物理学会春季学術講演会, 15p-K505-18, Mar. 2025.

Transfer Learning for Optimizing Topological Z-bending Waveguide

Qianshuo Wang, Liyan Hu, Xing-Xiang Wang, Sho Okada, Xiao Hu, Tomohiro Amemiya, 第72回応用物理学会春季学術講演会, 15a-K505-8, Mar. 2025.

二次元回折格子を用いた単層フルカラーARグラスの提案

前川 永遠, 永松 周, 向 立昕, 野田 真司, 岡田 祥, 白神 賢, 雨宮 智宏, 第72回応用物理学会春季学術講演会, 17a-K305-9, Mar. 2025.

2 次元FDTD 基盤の転移学習による高速な3 次元導波路解析モデルの実現

一沢 概, 岡田 祥, 雨宮 智宏, 第72回応用物理学会春季学術講演会, 17p-K305-4, Mar. 2025.

Photonic wire bonding using high refractive index UV curable resin for dip-in 3D laser lithography

Lixin Xiang, Sho Okada, Katsunori Nishiura, Takuo Shikama, Shu Nagamatsu, Towa Maekawa, Kensuke Otsuka, Tomohiro Amemiya, 第72回応用物理学会春季学術講演会, 15p-K305-14, Mar. 2025.

UVナノインプリントリソグラフィによるシリコン光回路作製技術の開発

永松 周, 雨宮 智宏, 森 莉紗子, 藤井 恭, 浅井 隆宏, 岡田 祥, 渥美 裕樹, 塩田 大, 西山 伸彦, 第72回応用物理学会春季学術講演会, 16a-K305-1, Mar. 2025.

バレートポロジーを活用した円偏光生成器の作製と評価

甲斐 航, 林 文博, 張 成昆, 吉見 拓展, 雨宮 智宏, 太田 泰友, 岩本 敏, 中川 茂, 第72回応用物理学会春季学術講演会, 14p-K505-10, Mar. 2025.