国内会議
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電子線グレースケール露光により作製した三次元レジストマスターモールドを用いたナノインプリントプロセス
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UV-NILリソグラフィを用いた6-inchシリコンフォトニクスプロセス
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位相制御された軌道角運動量干渉による3×3トポロジカル光カプラ
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RT法によるBiSbの赤外光学定数および吸収の評価
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機械学習を用いた特殊照明用二次元メタサーフェスレンズの設計
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三角錐構造を用いたARグラス用二次元回折格子の提案
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Eye-Tracking-Based Medical AR Display for Upward Viewing
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高屈折率樹脂を用いた導波路型 AR グラスの広視野角化に関する検討
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光素子層間光接続のための逆設計三次元ポリマー導波路の検討
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グレースケール露光を⽤いたレジストマスターモールドによるNILプロセス