Development of fabrication technology for silicon photoniccircuits using UV nanoimprint lithography

投稿日 : 2025年3月1日カテゴリー : タグ : 投稿者 : amemiya-lab

S. Nagamatsu, R. Mori, Y. Fujii, T. Asai, S. Okada, Y. Atsumi, D. Shiota, N. Nishiyama, T. Amemiya, The Conference on Lasers and Electro-Optics 2025 (CLEO 2025), May 2025.