研究業績Publications

論文
107
解説記事
25
執筆書籍
10
特許
30
招待講演
74
国際会議
202
国内会議
327

解説記事

    2026年

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    雨宮 智宏 他, 半導体製造プラズマプロセス技術と制御、計測、モニタリング（技術情報協会）

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    雨宮 智宏 他, 未来の半導体製造をひらく光学技術, 光学

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    雨宮 智宏 他, AI/半導体の進化に向けた光電融合技術の基盤と応用（仮題）（情報機構）

招待講演

    2026年

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    雨宮 智宏, 電子情報通信学会ポリマー光部品（POC）研究会, Jul. 2026.

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    T. Amemiya et al., The 48th PIERS 2026, Jul. 2026.

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    T. Amemiya et al., 16th International Conference on Metamaterials, Photonic Crystals and Plasmonic (META 2026), Jul. 2026.

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    T. Amemiya et al., The 12th International Conference on Antennas and Electromagnetic Systems (AES 2026), Jun. 2026.

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    T. Amemiya et al., Lithography Workshop 2026, Jun. 2026.

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    メタサーフェスを用いた医療用ARグラスの開発

    雨宮 智宏, 前川 永遠, 永松 周, 大塚 健祐, 李 周姸, 宮尾 宙, 白神 賢, 吉田 宗一郎. レーザー学会学術講演会第46回年次大会, F06-15a-VII-01, Jan. 2026.

国際会議

    2026年

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    An Eye-Tracking-Optimized Medical AR Display with Surface-Relief Gratings for Upward Viewing

    Y. Wang, T. Oie, T. Maekawa, H. Egawa, S. Nagamatsu, S. Noda, S. Yoshida, S. Shiraga, T. Amemiya, SID Display Week 2026, May 2026.

  • NIL process using a photopolymer master mold fabricated by grayscale lithography

    S. Nagamatsu, T. Maekawa, L. Xiang, J. Lee, H. Miyao, K. Otsuka, T. Amemiya, SPIE Photonics West 2026, Paper 13821-4, Jan. 2026.

  • Proposal of AR glasses for unobstructed view to support medical procedures

    T. Maekawa, Y. Wang, S. Nagamatsu, S. Noda, L. Xiang, S. Shiraga, T. Amemiya, SPIE Photonics West 2026, Paper 13821-84, Jan. 2026.

  • Wafer-scale fabrication of silicon passive components using UV-nanoimprint lithography

    Y. Nakayama, S. Nagamatsu, G. Ichisawa, T. Maekawa, R. Mori, T. Asai, Y. Fujii, D. Shiota, K. Onou, D. Tanabe, T. Amemiya, SPIE Photonics West 2026, Paper 13902-42, Jan. 2026.

国内会議

    2026年

  • 電子線グレースケール露光により作製した三次元レジストマスターモールドを用いたナノインプリントプロセス

    永松 周, 前川 永遠, 王 雅慧, 向 立昕, 李 周姸, 大塚 健祐, 宮尾 宙, 雨宮 智宏, 応用物理学会春季学術講演会, 17a-S4_202-5, Mar. 2026.

  • UV-NILリソグラフィを用いた6-inchシリコンフォトニクスプロセス

    中山 裕紀, 永松 周, 一沢 概, 前川 永遠, 森 莉紗子, 藤井 恭, 浅井 隆宏, 塩田 大, 大能 和人, 田邉 大二, 西山 伸彦, 雨宮 智宏, 応用物理学会春季学術講演会, 17p-WL2_401-5, Mar. 2026.

  • 位相制御された軌道角運動量干渉による3×3トポロジカル光カプラ

    山地 楽, 胡 立言, 一沢 概, 王 乾朔, 林 文博, 岡田 祥, 王 星翔, 胡 暁, 雨宮 智宏, 応用物理学会春季学術講演会, 15a-WL2_201-1, Mar. 2026.

  • RT法によるBiSbの赤外光学定数および吸収の評価

    西山 黎, ファムナムハイ, 雨宮 智宏, 橋谷田 俊, 河野 行雄, 応用物理学会春季学術講演会, 18a-WL2_301-4, Mar. 2026.

  • 機械学習を用いた特殊照明用二次元メタサーフェスレンズの設計

    海野 冬磨, 一沢 概, 前川 永遠, 雨宮 智宏, 応用物理学会春季学術講演会, 16p-M_110-13, Mar. 2026.

  • 三角錐構造を用いたARグラス用二次元回折格子の提案

    柄川 拓明, 大家 拓巳, 前川 永遠, 永松 周, 王 雅慧, 野田 真司, 白神 賢, 雨宮 智宏, 応用物理学会春季学術講演会, 16p-M_110-12, Mar. 2026.

  • Eye-Tracking-Based Medical AR Display for Upward Viewing

    Y. Wang, T. Oie, T. Maekawa, H. Egawa, S. Nagamatsu, S. Noda, S. Yoshida, S. Shiraga, T. Amemiya, 応用物理学会春季学術講演会, 16p-M_110-11, Mar. 2026.

  • 高屈折率樹脂を用いた導波路型 AR グラスの広視野角化に関する検討

    大家 拓巳, 前川 永遠, 柄川 拓明, 王 雅慧, 永松 周, 野田 真司, 李 周姸, 大塚 健祐, 宮尾 宙, 雨宮 智宏, 応用物理学会春季学術講演会, 16p-M_110-10, Mar. 2026.

  • 光素子層間光接続のための逆設計三次元ポリマー導波路の検討

    岡田 祥，雨宮 智宏, 山本 直克, 赤羽 浩一, 10pP9, 日本光学会年次学術講演会2025