研究業績Publications

解説記事

    2026年

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    雨宮 智宏 他, 半導体製造プラズマプロセス技術と制御、計測、モニタリング（技術情報協会）

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    雨宮 智宏 他, 未来の半導体製造をひらく光学技術, 光学

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    雨宮 智宏 他, AI/半導体の進化に向けた光電融合技術の基盤と応用（仮題）（情報機構）

招待講演

    2026年

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    T. Amemiya et al., 16th International Conference on Metamaterials, Photonic Crystals and Plasmonic (META 2026), Jul. 2026.

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    T. Amemiya et al., The 12th International Conference on Antennas and Electromagnetic Systems (AES 2026), Jun. 2026.

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    TBA

    T. Amemiya et al., Lithography Workshop 2026, Jun. 2026.

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    メタサーフェスを用いた医療用ARグラスの開発

    雨宮 智宏, 前川 永遠, 永松 周, 大塚 健祐, 李 周姸, 宮尾 宙, 白神 賢, 吉田 宗一郎. レーザー学会学術講演会第46回年次大会, F06-15a-VII-01, Jan. 2026.

国際会議

    2026年

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    NIL process using a photopolymer master mold fabricated by grayscale lithography

    S. Nagamatsu, T. Maekawa, L. Xiang, J. Lee, H. Miyao, K. Otsuka, T. Amemiya, SPIE Photonics West 2026, Paper 13821-4, Jan. 2026.

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    Proposal of AR glasses for unobstructed view to support medical procedures

    T. Maekawa, Y. Wang, S. Nagamatsu, S. Noda, L. Xiang, S. Shiraga, T. Amemiya, SPIE Photonics West 2026, Paper 13821-84, Jan. 2026.

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    Wafer-scale fabrication of silicon passive components using UV-nanoimprint lithography

    Y. Nakayama, S. Nagamatsu, G. Ichisawa, T. Maekawa, R. Mori, T. Asai, Y. Fujii, D. Shiota, K. Onou, D. Tanabe, T. Amemiya, SPIE Photonics West 2026, Paper 13902-42, Jan. 2026.

国内会議

    2026年

  • 東京工業大学雨宮研究所ロゴ

    光素子層間光接続のための逆設計三次元ポリマー導波路の検討

    岡田 祥，雨宮 智宏, 山本 直克, 赤羽 浩一, 10pP9, 日本光学会年次学術講演会2025