World’s highest refractive index photoresist for dip-in 3D laser lithography

投稿日 : 2025年3月1日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : amemiya-lab

S. Okada, K. Nishiura, T. Shikama, K. Otsuka, T. Amemiya, L. Xiang, N. Yamamoto, K. Akahane, The Conference on Lasers and Electro-Optics 2025 (CLEO 2025), May 2025.