2026

1. ナノインプリントリソグラフィを用いたシリコンフォトニクスプロセスの開発

雨宮智宏, 永松周, 中山裕紀, 森莉紗子, 藤井恭, 浅井隆宏, 塩田大, 田邉大二, 半導体製造プラズマプロセス技術と制御、計測、モニタリング（技術情報協会）

2. 生成AI時代を支える光電融合技術とフェムト秒レーザー三次元光接続

雨宮 智宏, Xiang Lixin, 岡田 祥, AI/半導体の進化に向けた光電融合技術の基盤と応用（情報機構）

2025

3. AR/VR 技術へのメタマテリアル応用

雨宮 智宏, 前川 永遠, 『メタマテリアル/メタサーフェス 実用展開の可能性 ～メタレンズ・通信・エネルギー・遮音等応用に向けた研究動向～』 情報機構, pp. 249-257.

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4. UVナノインプリントリソグラフィを導入したシリコンフォトニクスプロセス

雨宮 智宏, 永松 周, 西山 伸彦, 森 莉紗子, 藤井 恭, 浅井 隆宏, 塩田 大, 渥美 裕樹, 『ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望～EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み～』 AndTech, pp. 92-99.

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2024

5. UVナノインプリントを用いたシリコンフォトニクスプロセスの開発

雨宮 智宏, 西山 伸彦, 渥美 裕樹, 森 莉紗子, 藤井 恭, 浅井 隆宏, 塩田 大, 『ナノインプリント　―次世代微細加工技術の最前線―』 シーエムシー出版, pp.91-98.

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2022

6. シリコンフォトニクスを用いた光通信帯域対応光渦多重器の開発

雨宮 智宏, 西山 伸彦, 吉田 知也, 渥美 裕樹, 榊原 陽一, 『高速通信に対応した光回路実装、デバイスの開発』 技術情報協会, pp. 121-126.

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7. メタマテリアルフィルムを用いた光学迷彩

雨宮 智宏, 『メタマテリアルの設計、作製と 新材料、デバイス開発への応用』 技術情報協会, pp. 110-118.

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2015

8. Permeability Engineering of Semiconductor Photonic Devices

T. Amemiya, T. Kanazawa, A. Ishikawa, N. Nishiyama, Y. Miyamoto, T. Tanaka, S. Arai, Interferometers: Fundamentals, Methods and Applications, Nova Science Publishers, pp. 15-36.

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2014

9. 透明マントを求めて 天狗の隠れ蓑からメタマテリアルまで

雨宮 智宏. ディスカヴァー・トゥエンティワン, 240ページ, ISBN：978-4-7993-1502-6.

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2012

10. Non-unity Permeability in InP-based Photonic Device Combined with Metamaterial

T. Amemiya, T. Shindo, S. Myoga, E. Murai, N. Nishiyama, S. Arai, Metamaterial, IN-TECH, pp. 215-238.

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2010

11. Single Mode Operation of 1.5-μm Waveguide Optical Isolators Based on the Nonreciprocal-loss Phenomenon

T. Amemiya, Y. Nakano, Advances in Optical and Photonic Devices, IN-TECH, pp. 117-136.

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2008

12. InP-based Waveguide Optical Isolators for Photonic Integrated Circuits

T. Amemiya, Y. Ogawa, H. Shimizu, M. Tanaka, H. Munekata, Y. Nakano, Photonics Research Developments, Nova Science Publishers, pp. 11-36.

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