SAMCO PD-100ST

液体原料のTEOSによるシリコン酸化膜（SiO₂）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。独自のセルフバイアス法により高品質のシリコン酸化膜を薄膜から厚膜まで低ストレスで成膜できます。ø4 inch に対応した研究開発用装置です。