レジストプロセス装置 投稿日 : 2024年9月23日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab EVG 101 スピン塗布および現像用。 ポジ型/ネガ型レジスト、高粘度レジストなど多種多様な材料で、薄膜レジストの両面塗布やエッジ保護のための塗布にも対応します。2インチから300mmまでのさまざまな基板サイズだけでなく、ツールを変更することなく、長方形や正方形、または異形基板にも対し、非常に短い時間で処理を行うことができます。
レジストプロセス装置 投稿日 : 2024年9月23日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab EVG 101 スピン塗布および現像用。 ポジ型/ネガ型レジスト、高粘度レジストなど多種多様な材料で、薄膜レジストの両面塗布やエッジ保護のための塗布にも対応します。2インチから300mmまでのさまざまな基板サイズだけでなく、ツールを変更することなく、長方形や正方形、または異形基板にも対し、非常に短い時間で処理を行うことができます。