電子ビーム描画装置

JEOL JBX-8100FS

加速電圧100kV、直径3nmのビームを自動調整する電子光学系により、最小線幅8nmのパターンが描画できます。つなぎ精度: 仕様20nm/実測7.6nm(フィールドサイズ1000um)、重ね合わせ精度: 仕様20nm/9.8nm(フィールドサイズ1000um)を実現。各露光基板形状に基づいたモンテカルロシミュレーションによって点拡がり関数(PSF)を導出でき、得られたPSFに基づく近接効果補正が可能なソフトウェア(GenISys Beamer)も使用できます。