電子ビーム描画装置 投稿日 : 2024年9月2日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab JEOL JBX-6300FS 加速電圧50/100kV、直径3nm以下のビームを自動調整する電子光学系により、最小線幅8nmのパターンが描画できます。9nm以下のフィールド接合精度、重ね合わせ精度を実現。各露光基板形状に基づいたモンテカルロシミュレーションによって点拡がり関数(PSF)を導出でき、得られたPSFに基づく近接効果補正が可能なソフトウェア(GenISys Beamer)も使用できます。
電子ビーム描画装置 投稿日 : 2024年9月2日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab JEOL JBX-6300FS 加速電圧50/100kV、直径3nm以下のビームを自動調整する電子光学系により、最小線幅8nmのパターンが描画できます。9nm以下のフィールド接合精度、重ね合わせ精度を実現。各露光基板形状に基づいたモンテカルロシミュレーションによって点拡がり関数(PSF)を導出でき、得られたPSFに基づく近接効果補正が可能なソフトウェア(GenISys Beamer)も使用できます。