エッチング


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平行平板型RIE装置

投稿日 : 2024年9月23日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

SAMCO RIE-10NR Si、SiO₂、InPなどの各種薄膜の異方性加工を目的とした平行平板型反応性イオンエッチング (RIE: Reactive Ion Etching) 装置です。本装置は、PLCコントロールに…


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ICPエッチング装置

投稿日 : 2023年10月1日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

SAMCO ICP-101RF 放電形式に誘導結合プラズマ（Inductively Coupled Plasma）を採用しており、高密度プラズマを安定して生成し、高精度の加工が可能です。


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ICPエッチング装置

投稿日 : 2023年9月14日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

SAMCO RIE-400iP 本装置は放電形式に誘導結合プラズマ（Inductively Coupled Plasma: ICP）を採用したロードロック式高密度プラズマエッチング装置です。最大4インチウエハーに対応して…