露光


Warning: Undefined array key 0 in /home/r9922841/public_html/amemiya-lab.net/wp-content/themes/titech-amamiya-lab/archive.php on line 30

ホットエンボスナノインプリンター

投稿日 : 2024年9月23日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

明昌機工 NM-0401 熱インプリント、室温インプリントの機能を備えています。インプリントに欠かせない温度、圧力の条件を自由に設定可能。ステップ&リピートによる4回連続転写が可能です。


Warning: Undefined array key 0 in /home/r9922841/public_html/amemiya-lab.net/wp-content/themes/titech-amamiya-lab/archive.php on line 30

レジストプロセス装置

投稿日 : 2024年9月23日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

EVG 101 スピン塗布および現像用。 ポジ型/ネガ型レジスト、高粘度レジストなど多種多様な材料で、薄膜レジストの両面塗布やエッジ保護のための塗布にも対応します。2インチから300mmまでのさまざまな基板サイズだけでな…


Warning: Undefined array key 0 in /home/r9922841/public_html/amemiya-lab.net/wp-content/themes/titech-amamiya-lab/archive.php on line 30

マスクレス露光装置

投稿日 : 2024年9月6日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

大日本科研 MX-1205 ポイントアレイ方式を用いて直接パターンを描画する事が可能な装置です。リソグラフィ工程でのフォトマスクを必要とせず、開発コストやマーケットへの時間差を最小限に抑ることが可能です。100mm角露光…


Warning: Undefined array key 0 in /home/r9922841/public_html/amemiya-lab.net/wp-content/themes/titech-amamiya-lab/archive.php on line 30

マスクレス露光装置

投稿日 : 2024年9月5日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

大日本科研 MX-1204 ポイントアレイ方式を用いて直接パターンを描画する事が可能な装置です。リソグラフィ工程でのフォトマスクを必要とせず、開発コストやマーケットへの時間差を最小限に抑ることが可能です。150mm角露光…


Warning: Undefined array key 0 in /home/r9922841/public_html/amemiya-lab.net/wp-content/themes/titech-amamiya-lab/archive.php on line 30

３次元露光装置

投稿日 : 2024年9月4日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

WOP FemtoLAB ラボ向けに開発されたフェムト秒レーザー微細加工のシステムです。ナノオーダーの分解能・精度を誇るリニアポジショニングステージ、高性能ガルバノスキャナと多用途制御ソフト「SCA」を有します。stlデ…


Warning: Undefined array key 0 in /home/r9922841/public_html/amemiya-lab.net/wp-content/themes/titech-amamiya-lab/archive.php on line 30

UVナノインプリント露光装置

投稿日 : 2024年9月3日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

EVG 620NT マイクロ・ナノスケール構造を生産するために必要な高い性能、低コスト、そして量産に対応するソフトUVナノインプリント装置です。多目的ポリマースタンプ技術を備えた独自のSmartNIL テクノロジーを有し…


Warning: Undefined array key 0 in /home/r9922841/public_html/amemiya-lab.net/wp-content/themes/titech-amamiya-lab/archive.php on line 30

電子ビーム描画装置

投稿日 : 2024年9月2日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

JEOL JBX-6300FS 加速電圧50/100kV、直径3nm以下のビームを自動調整する電子光学系により、最小線幅8nmのパターンが描画できます。9nm以下のフィールド接合精度、重ね合わせ精度を実現。各露光基板形状…


Warning: Undefined array key 0 in /home/r9922841/public_html/amemiya-lab.net/wp-content/themes/titech-amamiya-lab/archive.php on line 30

電子ビーム描画装置

投稿日 : 2024年9月1日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

JEOL JBX-8100FS 加速電圧100kV、直径3nmのビームを自動調整する電子光学系により、最小線幅8nmのパターンが描画できます。つなぎ精度: 仕様20nm/実測7.6nm（フィールドサイズ1000um)、重…