後工程


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赤外線ランプ加熱装置

投稿日 : 2024年9月3日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

アドバンス理工 RTP-6 放物面反射赤外線ランプにより、4-6インチサイズのウエハを均一に加熱することを目的とした赤外線ランプ装置です。80℃/sの高速アニールが可能で、個別半導体プロセスのシリサイド形成や酸化膜形成、…


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ダイシングソー

投稿日 : 2024年9月1日 カテゴリー : カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

DISCO DAD3431 ワークサイズ最大Φ6インチ、特殊仕様により150×150 mmワークにまで対応します。また、高トルク2.0 kWスピンドルを標準搭載しており、難削材ワークの加工にも柔軟に対応します。ウォータケ…