CMOSプロセス加工Siプラットフォーム上ハイブリッド光デバイスに向けたInP/Si直接接合へのSi側ダミーパターンの影響 投稿日 : 2019年10月1日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab 御手洗 拓矢, 稲村 美希, 阿部 智之, 守田 憲司, 雨宮 智宏, 西山 伸彦. 第80回応用物理学会秋季学術講演会, 19p-E206-10, Sep. 2019.
CMOSプロセス加工Siプラットフォーム上ハイブリッド光デバイスに向けたInP/Si直接接合へのSi側ダミーパターンの影響 投稿日 : 2019年10月1日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab 御手洗 拓矢, 稲村 美希, 阿部 智之, 守田 憲司, 雨宮 智宏, 西山 伸彦. 第80回応用物理学会秋季学術講演会, 19p-E206-10, Sep. 2019.