Fabrication of Si photonic waveguides by electron beam lithography using improved proximity effect correction

投稿日 : 2020年11月20日カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

M. Eissa, T. Mitarai, T. Amemiya, Y. Miyamoto, N. Nishiyama, Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 59, No. 12, 126502