Fabrication of Si Photonics Waveguides by Thick Resist-Mask Electron Beam Lithography Proximity Effect Correction

投稿日 : 2019年11月1日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

Moataz Eissa, Takuya Mitarai, Tomohiro Amemiya, Nobuhiko Nishiyama, Yasuyuki Miyamoto. 第80回応用物理学会秋季学術講演会, 20a-E215-6, Sep. 2019.