Performance Improvement of HfS2 Transistors by Atomic Layer Deposition of HfO2

投稿日 : 2017年7月1日カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab

T. Kanazawa, T. Amemiya, V. Upadhyaya, A. Ishikawa, K. Tsuruta, T. Tanaka, Y. Miyamoto, IEEE Transactions on Nanotechnology, Vol. 16, No. 4, pp. 582-587.