UVナノインプリントを用いたシリコンフォトニクスプロセスの開発 投稿日 : 2024年9月27日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab 雨宮 智宏, 西山 伸彦, 渥美 裕樹, 森 莉紗子, 藤井 恭, 浅井 隆宏, 塩田 大, 『ナノインプリント ―次世代微細加工技術の最前線―』 シーエムシー出版, pp.91-98.
UVナノインプリントを用いたシリコンフォトニクスプロセスの開発 投稿日 : 2024年9月27日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab 雨宮 智宏, 西山 伸彦, 渥美 裕樹, 森 莉紗子, 藤井 恭, 浅井 隆宏, 塩田 大, 『ナノインプリント ―次世代微細加工技術の最前線―』 シーエムシー出版, pp.91-98.
