レーザー描画装置 投稿日 : 2026年2月27日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : amemiya-lab Heidelberg DWL 66+ 他の追随を許さない多用途性、プロ仕様のグレースケール機能、そして市販されているどの直接描画レーザーシステムよりも高い解像度を提供します。最小フィーチャーサイズ200 nmの高解像度モードを有し、65,536レベルのグレースケール露光が可能です。
レーザー描画装置 投稿日 : 2026年2月27日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : amemiya-lab Heidelberg DWL 66+ 他の追随を許さない多用途性、プロ仕様のグレースケール機能、そして市販されているどの直接描画レーザーシステムよりも高い解像度を提供します。最小フィーチャーサイズ200 nmの高解像度モードを有し、65,536レベルのグレースケール露光が可能です。