電子線グレースケール露光により作製した三次元レジストマスターモールドを用いたナノインプリントプロセス 投稿日 : 2026年6月11日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : amemiya-lab 永松 周, 前川 永遠, 王 雅慧, 向 立昕, 李 周姸, 大塚 健祐, 宮尾 宙, 雨宮 智宏, NGLワークショップ2026, Jul. 2026.
電子線グレースケール露光により作製した三次元レジストマスターモールドを用いたナノインプリントプロセス 投稿日 : 2026年6月11日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : amemiya-lab 永松 周, 前川 永遠, 王 雅慧, 向 立昕, 李 周姸, 大塚 健祐, 宮尾 宙, 雨宮 智宏, NGLワークショップ2026, Jul. 2026.
