応用物理学会 NGL（次世代リソグラフィ）ワークショップ2026（7月2-3日＠東京科学大学 70周年記念講堂）で、以下 2件の発表を行いました。

[発表一覧 (〇は発表者)]

2-2 UVナノインプリントリソグラフィを用いた大口径シリコンフォトニクス向け前工程プロセス
〇雨宮 智宏¹, 中山 裕紀¹, 永松 周¹, 前川 永遠¹, 西山 伸彦¹, 森 莉紗子², 藤井 恭², 浅井 隆宏², 塩田 大², 大能 和人³, 田邉 大二³, 山本 宏⁴ 
(1.東京科学大学, 2.東京応化工業, 3.テクセンドフォトマスク, 4.EVGジャパン)

P15 電子線グレースケール露光により作製した三次元レジストマスターモールドを用いたナノインプリントプロセス
〇永松 周¹, 前川 永遠¹, 王 雅慧¹, 向 立昕¹, 李 周姸², 大塚 健祐², 宮尾 宙², 雨宮 智宏¹
(1.東京科学大学, 2. 三井化学株式会社)

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