マスクレス露光装置 投稿日 : 2024年9月6日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab 大日本科研 MX-1205 ポイントアレイ方式を用いて直接パターンを描画する事が可能な装置です。リソグラフィ工程でのフォトマスクを必要とせず、開発コストやマーケットへの時間差を最小限に抑ることが可能です。100mm角露光サイズ、最小線幅0.8um、線幅精度0.1um、アライメント精度±0.15um。
マスクレス露光装置 投稿日 : 2024年9月6日 カテゴリー : タグ : 投稿者 : titech-amamiya-lab 大日本科研 MX-1205 ポイントアレイ方式を用いて直接パターンを描画する事が可能な装置です。リソグラフィ工程でのフォトマスクを必要とせず、開発コストやマーケットへの時間差を最小限に抑ることが可能です。100mm角露光サイズ、最小線幅0.8um、線幅精度0.1um、アライメント精度±0.15um。