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2025年1月25～30 日に米国サンフランシスコで開催された「SPIE Photonics West 2025」で、B4の永松 周（Shu Nagamatsu）が発表を行いました。
本研究では、UVナノインプリント（UV-NIL）を用いたシリコンフォトニクスプロセスを開発しました。EUVなどの超高解像露光技術を必要とする先端電子デバイス分野と比較すると、フォトニクス分野では露光プロセスにそれほど高い解像度を必要としないため、NILの大面積転写性や高スループット性を大いに活かすことができます。将来的には、シリコンフォトニクスを扱っている各ファウンドリの標準プロセスラインへのNIL導入も期待されます。