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書籍 『ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望~EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み~』が出版されました。


ISBN978-4-909118-79-0
監修平井 義彦
発行年月2025/03/31
ページ数135 ページ
定価55,000 円

書籍 『ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望~EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み~』(AndTech)に一節を寄稿致しました。ナノインプリント・リソグラフィのメカニズム、離型性課題の評価と対策、半導体微細加工の応用に向けた各種取り組み、装置の開発と実用化、デバイス適用への見通しなどが記載された書籍となっております。

書籍情報 HP