2025年第2回ナノインプリント技術研究会で、2件の発表を行いました

2025年第2回ナノインプリント技術研究会（5月16日＠KFC Hall & Rooms 両国）で、以下 2件の発表を行いました。

[発表一覧 (〇は発表者)]

ARグラス実現に向けた3次元レジストマスターによるNILプロセス
〇前川永遠¹、永松周¹、向立昕¹、李周姸²、大喜田尚紀²、宮尾宙²、大塚健祐²、飯田健二²、雨宮智宏¹
(1.東京科学大, 2.三井化学株式会社)

4inchマスターモールドを用いたUV-NILによるシリコンフォトニクスプロセス
〇永松周¹、森莉紗子²、藤井恭²、浅井隆宏²、岡田祥³、渥美裕樹⁴、塩田大²、向立昕¹、西山伸彦¹、雨宮智宏¹
(1.東京科学大, 2.東京応化, 3.情報通信研究機構, 4.産総研)