第264回フォトポリマー懇話会で発表を行いました。今回の講演では「UV-NILプロセス技術の開発：シリコンフォトニクスからARグラスまで」と題して、UVナノインプリントの応用先としてシリコンフォトニクスとARグラスに焦点を当て、当グループの研究成果についてお話させて頂きました。

フォトポリマー懇話会(TAPJ)　HP
講演会の詳細情報　第264回講演会 ナノインプリント技術の新展開