応用物理学会 NGL（次世代リソグラフィ）ワークショップ2025（7月3-4日＠東京科学大学 蔵前会館）で、以下 2件の発表を行いました。

[発表一覧 (〇は発表者)]

P12 グレースケール露光を用いたレジストマスターモールドによるNILプロセスの開発
〇前川永遠¹、永松周¹、向立昕¹、李周姸²、大塚健祐²、宮尾宙²、飯田健二²、雨宮智宏¹ 
(1.東京科学大, 2.三井化学株式会社)

P13 UVナノインプリントリソグラフィを用いたシリコン光回路の作製
〇永松 周¹、森 莉紗子²、藤井 恭²、浅井 隆宏²、岡田 祥³、渥美 裕樹⁴、塩田 大²、西山 伸彦¹、雨宮 智宏¹
(1.東京科学大, 2.東京応化, 3.情報通信研究機構, 4.産総研)

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