雨宮 智宏, 永松 周, 西山 伸彦, 森 莉紗子, 藤井 恭, 浅井 隆宏, 塩田 大, 渥美 裕樹, 『ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望～EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み～』 AndTech, pp. 92-99.